電暈處理光面膜（MP）
主要特征：薄膜的一表面經(jīng)電暈處理，另一面是光面，成為單面可鍍金屬層的基膜
**應(yīng)用范圍：主要用于金屬化膜自愈式電容器的電極和電介質(zhì)材料。如制造低壓并聯(lián)電力電容器、交流電動(dòng)機(jī)用電容器以及直流電容器
**薄膜厚度范圍：4μm—15μm
項(xiàng)目 型號(hào)
單位
6014(MP-A)
測(cè)試方法
厚度
標(biāo)稱(chēng)
μm
5D
6．9
10
實(shí)測(cè)
4．75
6．88
9．95
GB/T12802, 5.3
拉伸強(qiáng)度
縱向
MPa
165
160
155
GB/T12802, 5.8
橫向
325
312
310
斷裂伸長(zhǎng)率
%
166
163
157
60
58
57
收縮率
4.5
4
3．8
GB/T12802, 5.9
0.2
0.4
0.3
濕潤(rùn)張力
MN/m
41
GB/T12802, 5.18
介電強(qiáng)度 ( 電極法 )
平均值
V/ μ m
522
565
605
GB/T12802, 5.10
最低值
410
455
516
相對(duì)介電常數(shù)™
2.2
GB/T12802, 5.12
介質(zhì)損耗因數(shù) tg δ
2.8 × 10－4
2.5 × 10－4
2 × 10－4
體積電阻率 ρ V
Ω m
1.8 × 10 15
1.7 × 10 15
1.9 × 10 15
GB/T12802, 5.11
聚丙烯粗化膜（RP、RRP）
主要特點(diǎn)：使用進(jìn)口高純度、高等規(guī)度的電工級(jí)聚丙烯樹(shù)脂，采用平膜法分步雙向拉伸生產(chǎn)進(jìn)行工藝方法粗化處理 , 使膜單面或雙面具有適宜的粗化度。具有介質(zhì)損耗因數(shù)低、介電強(qiáng)度高、與多種浸漬油相容性好且溶漲小的特點(diǎn)。
**應(yīng)用范圍：主要用于膜紙復(fù)合浸油介質(zhì)或全膜浸油介質(zhì)電容器。如輸變電系統(tǒng)的無(wú)功補(bǔ)償、均壓、濾波、耦合等中高壓電力電容器、電容式互感器制造
**薄膜厚度范圍：6μm—15μm
型號(hào) 項(xiàng)目
6013RRP
9
12
15
9.08
11.89
15.15
135
130
133
298
282
285
150
151
48
47
44
熱收縮率
3.6
3.3
0.5
-
- , , , ,
表面粗糙度
0.34/0.42
0.40/0. 42
0.38/0.45
GB/T12802, 5.16
介電強(qiáng)度 (電極法)
V/μ m
495
528
531
450
452
488
介電強(qiáng)度 (元件法)
387
436
413
276
287
311
介電常數(shù)
介質(zhì)損耗角正切 tg δ
1.3×10 －4
1.2×10 －4
體積電阻率 ρV
1.7×10 15
1.5×10 15
1.4×10 15
空隙率
9.54
9..57
9.50
GB/T12802, 5.14
